Nanotrac Wave II Zeta電位分析儀
Nanotrac Wave II通過增強的光信號,新穎的探針技術和**的算法為用戶提供了**的顆粒分析能力。無論您的材料是ppm還是接近成品,Wave II都能對亞納米到幾微米范圍內的材料進行快速,靈敏和準確的測量。 Nanotrac Wave II是一種測量系統(tǒng),用于直接自動測量電泳遷移率和布朗運動以及由此產生的Zeta電勢和粒徑。 Microtrac MRB是顆粒分析技術的先驅,開發(fā)DLS系統(tǒng)已有30多年的歷史。Nanotrac Wave II是*新一代的亞微米粒度和Zeta電勢分析儀。Nanotrac Wave II的新的設計提供了可靠的技術,可實現(xiàn)更快的測量速度,小于0.8 nm的粒徑測量,更高的精度和準確性,所有這些都結合在緊湊的動態(tài)光散射分析儀中,無需移動光學組件。廣泛的軟件包(無許可證)根據(jù)ISO 22412計算分析數(shù)據(jù),并根據(jù)CFR21 Part 11批準。 Nanotrac系列的測量原理基于180°外差-后向散射布置中的動態(tài)光散射(DLS)。在這種設置中,一部分激光束被添加到散射光中。這就像散射光的光學增強一樣。粒度范圍為0.8至6,500納米。與傳統(tǒng)的DLS相比,Microtrac MRB的參考拍打可將光信號增加100到1,000,000倍。增強的光信號使用戶能夠在市場上*寬的濃度范圍內準確測量單模和多模分布。
設置在激光散射光(180°)中,用于濃縮和稀釋的顆粒分散體。通過直接分析布朗運動來分析電泳遷移率,Zeta電位(根據(jù)Smoluchowski)以及粒徑分布的軟件。
-200mV bis + 200mV,Zeta電位重復性+/- 1 mV(與PS Latex標準顆粒150至500 nm有關)
制藥/生物技術,化學,食品/飲料,塑料/聚合物,涂料/覆蓋層,油墨,粘合劑,學術研究