Nanotrac Wave II通過增強(qiáng)的光信號，新穎的探針技術(shù)和**的算法為用戶提供了**的顆粒分析能力。無論您的材料是ppm還是接近成品，Wave II都能對亞納米到幾微米范圍內(nèi)的材料進(jìn)行快速，靈敏和準(zhǔn)確的測量。 
Nanotrac Wave II是一種測量系統(tǒng)，用于直接自動測量電泳遷移率和布朗運(yùn)動以及由此產(chǎn)生的Zeta電勢和粒徑。 
Microtrac MRB是顆粒分析技術(shù)的先驅(qū)，開發(fā)DLS系統(tǒng)已有30多年的歷史。Nanotrac Wave II是*新一代的亞微米粒度和Zeta電勢分析儀。Nanotrac Wave II的新的設(shè)計提供了可靠的技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)更快的測量速度，小于0.8 nm的粒徑測量，更高的精度和準(zhǔn)確性，所有這些都結(jié)合在緊湊的動態(tài)光散射分析儀中，無需移動光學(xué)組件。廣泛的軟件包（無許可證）根據(jù)ISO 22412計算分析數(shù)據(jù)，并根據(jù)CFR21 Part 11批準(zhǔn)。
Nanotrac系列的測量原理基于180°外差-后向散射布置中的動態(tài)光散射（DLS）。在這種設(shè)置中，一部分激光束被添加到散射光中。這就像散射光的光學(xué)增強(qiáng)一樣。粒度范圍為0.8至6,500納米。與傳統(tǒng)的DLS相比，Microtrac MRB的參考拍打可將光信號增加100到1,000,000倍。增強(qiáng)的光信號使用戶能夠在市場上*寬的濃度范圍內(nèi)準(zhǔn)確測量單模和多模分布。

特征

• 增強(qiáng)的光信號，可對參考拍打提供**的精度
• 獨(dú)特的探頭設(shè)計，固定的光學(xué)器件和180°背向散射采集功能，可在從ppm到接近固體（40％w / v）的*寬濃度范圍內(nèi)進(jìn)行快速準(zhǔn)確的測量
• 無需“先驗”或預(yù)先了解粒度分布
• 通過消除電滲流引起的誤差，能夠測量更接近等電點(diǎn)的Zeta電位。ZP測量范圍為-200至+ 200mV
• 用戶可選的數(shù)據(jù)呈現(xiàn)模式：

1. 分布–標(biāo)準(zhǔn)體積粒徑分布
2. 舊版-從“舊版”工具過渡時確保數(shù)據(jù)一致性
3. 模式–同時測量尺寸和濃度

• 可移動樣品池–特氟龍或不銹鋼
• 所需樣品量為150 μl –非常適合高價材料
• 珀爾帖溫度控制裝置
• 多個流通池選項–可以連接滴定儀。

產(chǎn)品優(yōu)勢

• 無需“先驗”粒度分布知識，只需加載材料并運(yùn)行即可
• 簡便的SOP設(shè)置和管理，非常適合跨多個班次管理用戶
• 顯示比色皿和樣品池的清潔度，包括警報和錯誤消息
• 提供多種翻譯語言
• 廣泛的數(shù)據(jù)庫
• 符合FDA 21 CFR Part 11
• 統(tǒng)計分析
• 手動選擇材料的動態(tài)粘度值–確保準(zhǔn)確性和一致性（根據(jù)Stokes-Einstein）
• 無需設(shè)置零–空白測量內(nèi)置于軟件中
• 用戶收到有關(guān)規(guī)范通過或失敗的通知
• 實(shí)時或召回的數(shù)據(jù)庫趨勢圖
• 用戶定義的數(shù)據(jù)報告和計算
• 多種數(shù)據(jù)導(dǎo)出選項

電泳：

設(shè)置在激光散射光（180°）中，用于濃縮和稀釋的顆粒分散體。通過直接分析布朗運(yùn)動來分析電泳遷移率，Zeta電位（根據(jù)Smoluchowski）以及粒徑分布的軟件。

ZETA電位范圍：

-200mV bis + 200mV，Zeta電位重復(fù)性+/- 1 mV（與PS Latex標(biāo)準(zhǔn)顆粒150至500 nm有關(guān)）

應(yīng)用實(shí)例

制藥/生物技術(shù)，化學(xué)，食品/飲料，塑料/聚合物，涂料/覆蓋層，油墨，粘合劑，學(xué)術(shù)研究