Holmarc的紫外線臭氧清潔劑旨在在環(huán)境溫度和增強模式下從樣品表面去除薄薄的污染物層。它基本上是一種使用干法處理的光敏氧化方法。源低壓汞燈產生UVC系列光譜，尤其是184.9和253.7nm的光譜線充當臭氧的產生者和an滅者，臭氧也用于激發(fā)有機分子。總體而言，它具有易于使用的設置和程序，可在預清潔后產生*佳效果。無需任何預清潔，它就能對厚的光刻膠，純碳膜和石英襯底產生*佳效果。
紫外線燈類型 ： 高臭氧紫外線燈 紫外線燈供應 ： 4000 V，30 mA 電源輸入 ： 230V，50Hz *大基板尺寸 ： 150毫米x 150毫米 持續(xù)時間 ： 1-99秒/分鐘/小時 施工 ： 不銹鋼 樣品進料 ： 基于幻燈片
氧氣入口
臭氧去除泵
LCD顯示單元
樣品溫度測量功能
蜂鳴器，指示清潔完成
鎖定功能可鎖定進樣盤，避免在操作過程中打開
瓦數(shù)：72W（在345 x 250尺寸的腔室中9個8 W燈管）
**特性
Holmarc的紫外線臭氧清潔器配有非常合適的鋁制腔室，該腔室封閉并阻擋了來自汞源的有害UVC輻射。靠近紅色標志緊急停止開關的沖洗按鈕借助鼓風機和附加軟管幫助從托盤室中排出所有殘留的臭氧并排出氣體。為了避免金屬樣品表面變暗的影響，我們建議在紫外線臭氧清潔劑下使用較短的時間。
應用領域
在薄膜沉積之前進行基板清潔，制造用于時鐘和頻率控制的需要超清潔表面的石英晶體諧振器，在超高真空下以非零力對金屬進xing氣密密封，制造護目鏡，清潔鏡片，鏡子，太陽能電池板，拆卸光刻膠，光掩模，硅片等