Holmarc的旋涂機(jī)，型號：HO-TH-05T是專用的臺式系統(tǒng)，用于在旋壓工藝參數(shù)得到良好控制的研究實驗室中旋涂小基材。高速和持續(xù)時間范圍允許用戶獲得所需的薄膜厚度或厚度。旋轉(zhuǎn)頭執(zhí)行器是一種精密的直流伺服電機(jī)，需要較少的維護(hù)，并具有精que確的速度和加速度控制。由無油真空泵驅(qū)動的真空吸盤將基材固定在旋轉(zhuǎn)頭上。
該設(shè)備具有用戶友好的前面板，該面板具有5英寸觸摸屏顯示器，可對旋轉(zhuǎn)過程進(jìn)行編程。旋轉(zhuǎn)持續(xù)時間，旋轉(zhuǎn)速度，加速度等都是可通過前面板進(jìn)行編程的參數(shù)。由于程序存儲器是非易失性的，因此在斷電時不會丟失所記錄的參數(shù)。該模型配備了無限制的預(yù)設(shè)，可編輯程序的存儲器，每個都有10個步驟。
旋涂在有機(jī)電子，納米技術(shù)，半導(dǎo)體工業(yè)和其他工業(yè)領(lǐng)域無處不在。
旋涂廣泛用于使用溶膠-凝膠前驅(qū)體在玻璃或單晶基板上的功能性氧化物層的微細(xì)加工，可用于制造具有納米級厚度的均勻薄膜。它廣泛用于光刻中，以沉積約1微米厚的光刻膠層。
旋涂是用于將均勻薄膜沉積到平坦基板上的*常見技術(shù)之一。它被廣泛用于各種行業(yè)和技術(shù)領(lǐng)域。旋涂的優(yōu)勢在于其能夠快速，輕松地生產(chǎn)非常均勻的薄膜的能力，該薄膜的厚度范圍從幾納米到幾微米。
在該技術(shù)中，少量涂料涂覆在基材的中心，基材要么以低速旋轉(zhuǎn)，要么根本不旋轉(zhuǎn)。然后，使基材高速旋轉(zhuǎn)，以便通過離心力使涂料散布。旋轉(zhuǎn)繼續(xù)進(jìn)行，同時流體從基板的邊緣旋轉(zhuǎn)，直到達(dá)到所需的薄膜厚度。所施加的溶劑通常是揮發(fā)性的，并且同時會蒸發(fā)。因此，旋轉(zhuǎn)的角速度越高，薄膜越薄。膜的厚度還取決于溶液和溶劑的粘度和濃度。